多比特水印最优下界新构造提出，旧方案被证次优

Yu-Shin Huang、Chao Tian 与 Krishna Narayanan 在 arXiv 发表研究，针对大语言模型多比特生成水印，提出两种新的编码-解码构造，称其达到此前建立的有限 token 区间漏检概率下界，从而完整刻画最优多比特水印性能。 研究同时指出，此前声称达到该下界的方案实际是次优的，并分析了旧方案的失效机制。新方法将水印设计建模为线性规划，给出实现最优性的结构条件，并比较了两种新方案之间的权衡。

AI 根据报道生成 · 54 分钟前更新

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。